中晶微米级氧化铝抛光粉（精抛）  官网：www.zhongyancl.com

.【产品性能】

本公司生产的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化铝产品，采用独特的生产工艺，利用国内外先进的生产设备，通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能：

●晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；

●磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好；

●研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚

玉的抛光效果，切削力强、出光快

【适用范围及建议】 

①人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光（机器抛光、滚动抛光）、手动抛光（研磨抛光）等。

②铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。

③金属表面抛光。

④抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石，大理石、花冈岩、水晶等！

                    中晶微米级氧化铝抛光粉（中抛）

      半导体行业：单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛

【产品性能】 CA专用半导体研磨粉，韧性高，耐磨，不易造成划伤、生产时未添加化学助剂。同期和日本FUJIMI FO产品进行对比，研磨效率同期提高1.5倍，表面平坦度TTV有所提高，易于清洗。
【适用范围及建议】  精密研磨半导体单晶硅片、化合物半导体（砷化镓晶体，铌酸锂晶体等）。

                        光学玻璃、光电晶体领域

【产品规格】

【性能】

       TWA系列氧化铝研磨粉，其高韧性、高磨削效率，耐磨性好，同期和绿碳化硅磨料对比，其研磨效率高出1.5~2倍，且研磨加工后工件表面品质较高。
【适用范围】

       专门用于光学镜片、手机玻璃镜片、树脂镜片、手表玻璃和棱镜、光学镜头等。

                  中晶微米级氧化铝抛光粉（粗抛）

                               光学玻壳领域

【产品规格】

【特点】

①  外观呈纯白色，韧性高，不易压碎，耐磨性好。
②  形状呈六角平板状，不容易造成划伤，悬浮性好。
③  研磨效率和传统研磨粉相比，速率高出2-3倍，且加工后产品表面平坦度好于传统磨料，并为后期抛光加工省去了不必要的麻烦。
【适用范围】

       适用于显像管玻壳、光学镜片的研磨加工。特别适合大尺寸玻壳、玻屏的研磨加工。

联系：冯总   18762687182